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派瑞林真空镀膜（CVD）技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要突破。随着制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从PCBA电路板、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜（CVD）设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的防护膜；数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜；充分展示和应用各种光学特性的光学膜；计算机显示用的感光膜；TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜；建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；包装领域用防护膜、阻隔膜；装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜；工、模具表面上应用的耐磨超硬膜；纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。

派瑞林（parylene）材料本身的阻挡特性远优于其它高分子涂层，作为一种阻挡层可有效地防止各种阴阳离子的扩散迁移，从而可靠地保护产品；派瑞林（Parylene）涂层工艺有效阻止了离子在涂层和产品基板界面的扩散，大大减少了常见的涂层内腐蚀。

派瑞林（parylene）材料作为涂层，派瑞林（parylene）超薄、无孔隙、均匀、同形性好、耐腐蚀、与人体组织及血液相容等一系列优点,使其在生物医学领域应用广泛, Parylene不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，可有效防止外界的化学品、水分和体液的侵蚀,同时增加了器件表面的干润滑性和绝绿性能。

1.派瑞林真空镀膜是一种在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀膜件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。如真空镀铝、真空镀铬等。

2.光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层(或多层)金属(或电介质)薄膜的工艺过程。光学零件表面镀膜的目的是为了满足减少或增加光反射、分束、分色、滤光和偏振的要求。常用的涂膜方法有真空涂膜(物理涂膜之一)和化学涂膜。

PVD是物理气相沉积的简称，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上真空镀膜。利用物理过程实现物质转移，在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层，其特殊性能包括强度高、耐磨性、散热性、耐腐性、以及绝缘等。涂层的物质源是固态物质，利用气体放电或加热的方式使靶材蒸发或者电离，经过“蒸发或者溅射”后，在电场的作用下，在工件表面生成与基材性能不同的固态物质涂层。

在日常的操作中，有些用户由于其操作不当导致镀膜效果欠佳的问题，在PVD真空镀膜过程中,镀膜机腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时，采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力，从而提升终等离子气相沉积(PVD)的结果。