蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序,曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上,然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准,再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间,固定后进行曝光。
显影就是在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。显影包括正显影和反转显影。正显影时,显影色粉所带电荷的极性,3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术,该后盖3D玻璃8曲面,弧面曲率大,普通的贴膜技术难以解决,应用范围主要是机型,曲率越大的玻璃加工制造难度加大,良率降低,成本报价相应要高,设计八曲面玻璃主要是为了满足如下两点需求:曝光显影加工是半导体工业制程中的一种加工方法,也被称为光刻工艺。它是通过在芯片表面上涂覆一层光刻胶,并使用掩膜在光刻胶上曝光出所需要的芯片图案,通过显影来去除未曝光的部分,将芯片图案准确地转移到芯片表面的制程。原文链接:http://www.souke.org/caigou/show-83644.html,转载和复制请保留此链接。
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