洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
洁净室净化工程检测仪器的选用:虽然对净化车间内的洁净度的丈量,可以选用净化工程光散射粒子计数器、凝结的核粒子计数器、电子显微镜和光学显微镜,但现在用得多的为光散射粒子计数器。由于此种粒子计数器在使用中可以对室内空气的含尘量进行自动、连续、及时地对应丈量,并且可以直接显现瞬时的含尘浓度,也可以对不同粒径的含尘浓度进行丈量,使用简单、方便、及时、灵敏。
我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初,在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的规划、建造开展很快,相继建成一批洁净厂房,并研制成功100级单向流洁净室;与此同时,洁净厂房用设备和资料,如过滤器,洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功,并投入出产,虽然制作质量和某些工程指标与世界水平尚有差距,但已能满足国内部分需求,到20世纪70年代末我国洁净室规划、建造和洁净工程的开展走向成熟阶段。
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