钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数
1. 光学系统:中阶梯二维分光光学系统,焦距400mm
2. 谱线范围:165nm~900nm,光学分辨率:0.007nm(200nm处)
3. 光栅规格:中阶梯光栅,52.67刻线/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶体管固态射频发生器,小巧有效
5. 40.68MHz频率提高信噪比,改善了检出限
6. 自动匹配调节
7. 全组装式炬管,降低了维护成本
8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵,具有快速清洗功能
9. 实验数据稳定性良好:重复性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);稳定性:RSD
≤2.0%(大于3小时)
Plasma 2000 技术特点
1. 优异的光学系统
2. 固态有效射频发生器,体积更加小巧
3. 流程自动化,状态监控及自动保护
4. 科研级检测器,极高的紫外量化效率
5. 强大分析谱线
6. 信息直观丰富
7. 多窗口多方法
8. 编辑功能强大
9. 智能谱图标定
10. 智能干扰矫正
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钢研纳克“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目顺利通过验收
2016年4月12日,北京市科学技术会在钢研纳克永丰产业基地主持召开了国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目(项目编号2011YQ140147)初步验收会议。
本次初步验收会由李建玲处长主持,会议成立了项目初步验收技术组,金国藩院士作为组组长。组听取了项目及各承担单位的汇报,审阅了相关资料,进行了现场检查,经质询和讨论,终形成了验收评审意见。
和一致认为项目验收材料齐全、规范,符合验收要求。项目成功开发出具有自主知识产权的ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪两种痕量分析仪器整机,实现推广应用;攻克了ICP射频源、四极杆射频源、激光烧蚀固体直接进样系统、多位自动进样装置、基于中阶梯光栅和大面积CCD采集的高分辨二维分光系统、碰撞反应池、中阶梯光栅刻划、四极杆等关键部件、关键技术及核心元器件技术和工艺难题;针对国内用户的普遍特点和特殊需求,在仪器中集成了多功能开放性软件、谱线和分析方法数据库,提升国产分析仪器的国际竞争力。项目执行期内共完成了分析方法、应用、对比报告51篇,形成行业标准8项,38项(其中授权19项),软件著作权4项,发表65篇。项目预期目标全部实现。
在工程化和产业化方面,项目牵头单位已经在永丰建成ICP光谱仪、ICP质谱仪产业基地,将可靠性管理的理论、工具、方法和装备应用于分析仪器开发的全流程,建立了完整的质量管理体系,建设了ICP射频源、激光烧蚀进样系统、ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪4条生产线。ICP全谱光谱仪已经获得生产许可证书,产品已经销售至宁夏、浙江、山东、新疆、湖南、河南及国外(伊朗)等地,产品经过安装和调试,均顺利通过验收。
ICP光谱仪应用范围ICP 光谱仪的应用范围非常广泛,以下是一些常见的应用领域:
金属材料分析:用于检测金属材料中的元素成分,如钢铁、铝合金、铜合金等。
地质矿产分析:可以分析矿石、土壤等地质样品中的元素含量,帮助矿产勘查和开采。
环境监测:用于检测水、土壤、空气中的重金属元素等污染物,监测环境质量。
化工领域:分析化工产品中的元素成分,如化肥、涂料等。
食品安全:检测食品中的微量元素、有害元素等,确保食品安全。
材料研究:在新材料的研发过程中,ICP 光谱仪可以提供元素成分信息,帮助研究人员了解材料的性能和特性。
医学领域:用于分析人体组织、血液等样品中的元素含量,辅助疾病诊断和诊治。
这只是 ICP 光谱仪的一些主要应用领域,实际上它还可以在其他许多领域发挥重要作用。不同的应用领域可能对仪器的性能和功能有不同的要求,所以在选择 ICP 光谱仪时,需要根据具体的应用需求来进行评估和选择。
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