UV光氧氧化技术
光氧氧化是指在确定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为CO2或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光解剂本身不发生变化。,改进的新一代TiO2光解催化氧化设备,本产品利用UV紫外线技术(波段184.9nm-253.7nm),产生臭氧,游离活性氧离子。通过紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。
当化学物质通过吸收能量(如热能、光子能量等),可以使自身的化学性质变得活跃甚至被裂解。当吸收的能量大于化学键键能,即可使得化学键断裂,形成游离的带有能量的原子或基团。当波段内的真空紫外线(波长范围内184.9nm-253.7nm),促使有机废气物质通过吸收该波段的光子,而该波段的光子能量大于大多数的化学键键能,使得有机物质得以裂解;再通过裂解产生的臭氧将其氧化成简单、性能稳定、稳定的物质,如H2O和CO2等。
活性炭吸附技术
废气经过吸附塔内的初效过滤器除去固体颗粒物后,进入塔体,经过活性炭层吸附后,除去气体中的有机废气分子,经风机排到室外。
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