曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光,对于空白的蚀刻钢片感光,
曝光一般在曝光机内进行,技术关键点:低温平行光源,波长根据油墨特性进行设备,目前光源是一大难点问题。利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点,采用曝光显影技术,遮蔽油墨可控良率可达90%以上。
曝光显影是一种用于光刻制程的技术,主要用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件。它包含两个阶段:曝光:在将光线通过掩膜中的芯片图案照射到光刻胶表面的过程中,使得光刻胶在芯片表面保留下芯片图案的影像。原文链接:http://www.souke.org/chanpin/show-123505.html,转载和复制请保留此链接。
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