四种常见的真空镀膜材料
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物:氟化钕NbF3,BaF2,氟化CeF3,氟化镁MgF2,LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。
3.其它化合物:硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,CdS等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料:高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟合金CuInGa,铜铟硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,也就是我们俗称的真空镀膜。
物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时,物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能,人们在竞相开发、高可靠性设备的同时,也对其应用领域的扩展,尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。Parylene在电子产品领域的优点:防盐雾,防氧化,防潮湿三防性能优异同时在酷热及低温-270摄氏度条件下均保持良好的防护特性。
可承受常规消毒Parylene涂层被广泛应用于各类产品,如心脏起搏器、房间隔缺损封堵器.血管支架、人工耳、人工心脏、超声波探头、线路板,骨钉、临时手术器械、替换型器件、引流管、脑部探针及针头等产品。
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