厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
真空镀膜知识：
1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。
2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位（Pa）
3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa
4.压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h
5.真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S） :当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上位置测得的平衡压力之比。
6.极限真空度：（单位：Pa):在规定条件工作，在不引入气体正常工作的情况下，趋向平稳的压强。
真空镀膜加工和光学镀膜有什么区别
真空镀膜加工是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。