通过曝光显影，露出要焊接的盘与孔，其它地方盖上阻焊层，防止焊接时短路
丝印字符
将所需的文字，商标或零件符号，以网板印刷的方式印在板面上，再以紫外线照射的方式曝光在板面上。
表面处理
裸铜本身的可焊性能很好，但长期暴露在空气中容易受潮氧化，倾向于以氧化物的形式存在，不大可能长期保持为原铜，因此需要对铜面进行表面处理。表面处理基本的目的是保证良好的可焊性或电性能。
常见的表面处理：喷锡、沉金、OSP、沉锡、沉银，镍钯金，电硬金、电金手指等。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。
显影的主要过程如下：对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。
对准曝光
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。
对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
使用的光刻机根据不同的曝光原理，分为接触式曝光，接近式曝光和投影式曝光。也可按自动化程度高低
手动
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（1）圆网上胶后，烘干时间过短或温度偏低，经曝光后的感光胶层由于未能达到完全光敏聚合，当浸水显影时，被曝光的胶层也扩散，并溶解于水，使整个园网胶层剥落，进而失去原有的花纹。
显影液的成分与功能.一般显影液由显影剂、保护剂、促进剂和抑制ji组成.a.显影剂 米妥尔：显影速度快,反差小,受温度影响小.对ben二酚：显影缓和,反差大,受温度影响大.菲尼酮：损耗低,用量小,易保存,易产生灰雾.b.保护剂：无水亚硫酸钠 在显影液中Na 2SO 3先与氧气化合,防止了显影剂的氧化,且有溶解银盐的的作用,有微粒效果.c.促进剂：无水碳酸钠.在显影中它能产生酸性物质xiù氢酸,起到妨碍显影剂的作用,故用Na 2SO 3增加碱性.d.抑制ji：xiù化钾.它可防止未曝光银盐还原成银而生成灰雾.
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曝光是金属蚀刻工艺里特别重要的一项，曝光的好坏跟产品的质量是有直接影响的，曝光的好与否，直接影响到蚀刻后的产品精度，对于超精密的产品，哪怕一丝偏差精度就要超差。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻(dryetching)两类。因此曝光设备和技术人员也是质量控制的要点，使用的曝光机，是国外进口精密设备，曝光操作员拥有10来年经验的技术员，金属蚀刻曝光过程中在设备和人员上都能保证产品质量。