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宁夏回族自治PDMS模具来电咨询「顶旭」序章是什么意思

   日期:2023-10-23     作者:顶旭    浏览:44    评论:0    
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3分钟前 宁夏回族自治PDMS模具来电咨询「顶旭」[顶旭60ca79e]内容:

SU-8软烤(光刻胶的第yi次烘烤)

软烘烤的目的是蒸发溶剂,使 SU-8 光刻胶更坚固。蒸发会稍微改变层的厚度,并准备好暴露在紫外线下的 SU-8 光刻胶。实际上,大约 7% 的溶剂量可以实现良好的曝光。

这将取决于层的厚度,但请记住,有问题的点将是 SU-8 光刻胶内部的机械应力。为了尽可能地减少这种压力,你必须稍微加热和冷却。使用热板来烘烤 SU-8 光刻胶,它可以让您从晶片的底部到顶部都有热量,从而有利于溶剂蒸发。

对于渐进式加热,我们建议您遵循特殊的加热模式,第yi个平台为 65°C,然后第二个平台为 95°C,每个平台的时间取决于 SU-8 光刻胶层的厚度。

在此步骤结束时,晶片可以在数周内保持在黑暗和平坦的表面上,然后继续并完成该过程而不会产生严重后果。

边缘SU-8光刻胶去除

边缘光刻胶珠粒去除步骤包括在旋涂之后去除晶片周围的光刻胶边缘珠粒。由于光刻胶的表面张力,出现边珠。正因为如此,光刻胶层在边缘较厚,高度即取决于光刻胶的粘度。

特别是对非常粘稠的光致抗蚀剂,其中,所述边珠可以上升几个微米,它必须被除去。实际上,边缘珠粒会在曝光步骤期间阻止掩模尽可能靠近晶片,而这种间隙将导致设计中的分辨率损失。

通常,边缘去除是通过当在高速旋转向前注入bing酮的衬底的边缘完成。由于设备更大,这一步可以手动或自动完成。

SU-8光刻胶模具开发

显影是在溶剂中稀释未连接的 SU-8 光刻胶的步骤。在这一步,设计在基板上显露出来。SU-8 的开发要归功于 SU-8 开发人员。它是Microchem的产品,主要由PGMEA(bing二醇单jia醚乙suan酯)组成,但由于乳酸乙酯或二bing酮醇,您也可以开发SU-8。将您的晶圆放入装有 50mL 显影液的结晶器中。SU-8 开发的时间取决于 1 分钟到 15 分钟以上的层厚度。在开发过程中保持良好的搅拌,以达到zui佳的开发效果。用异bing醇冲洗晶圆。如果仍有一些白色痕迹,请在 1-2 分钟内再次显影。如果再次残留,则更换溶液并使用 50mL 新显影剂 1-2 分钟。擦干的晶圆。

原文链接:http://www.souke.org/news/show-220520.html,转载和复制请保留此链接。
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