等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰，无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测，为了解决这一问题，基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象，定时测抛光过程中电流值和抛光液温度，以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系，再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。
等离子抛光设备的技术水平目前国外有着较长的研发历史和经验，其产品在国际市场上有着较高的竞争力和认可度，中国在等离子抛光技术方面起步较晚，虽然近年来有所发展，但仍存在一定的技术差距，尤其是在等离子体生成、控制和稳定方面。市场占有率方面。国外在等离子抛光设备市场上占据着较大的份额，其产品广泛应用于手机电子、数码配件、集成电路制造、运动器材、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、器械、手表饰品、汽车配件等领域。中国在等离子抛光设备市场上还有很大的发展空间。
做为了一家成熟的等离子抛光技术公司如何克服难题采用等离子抛光技术时，需要根据工件的材质、形状、尺寸等特点，选择合适的工艺、参数等，以减少对工件表面的不利影响。采用自动化或智能化的控制系统时，可以利用一些先进的传感器、控制器、软件等，实现对抛光液的实时监测和调节，同时也可以采用一些故障诊断和预防的方法，如自检、报警、保护等，以提高抛光效果和安全性。优化工艺参数时，可以根据工件的材质、形状、尺寸等特点，选择合适的电源、电极、抛光液等，同时也可以通过一些试验和模拟的方法，确定的电压、电流、时间、间隙等，以提高抛光深度和精度 。提高设备的性能、稳定性、寿命和可靠性时，可以利用一些先进的材料、结构、技术等，提高设备的设计和制造水平，同时也可以通过一些维护和保养的方法，延长设备的使用寿命，以降低设备的运行和维护成本。加强科研投入，增加科研经费和人才培养，同时也可以通过一些交流和合作的平台，促进技术的共享和转化，努力提高国内等离子抛光技术的市场竞争力。