高纯气体的输送管路系统
随着微电子工业的发展,超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大,要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高,对气体中杂质和露1点要求极为严格,需要达到ppb、ppt级,尘埃粒径求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。氦质谱检漏仪随着科技的迅猛发展,氦质谱检漏仪及其应用技术也在不断发展和究善。
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高纯供气系统
集中供气系统需要规划设计一个独立的气瓶室,根据实验室的布局和用气情况在实验室的每层或几层设置一个气瓶室,也可在实验室外部设计一个为整个实验室供气的气瓶室,钢瓶储存区应合理布置,保持可燃性容器和助燃性容器间的安全间距。实验室气体管道设计要求了解实验室设计的都知道:实验室的任何的设计都是有规格要求的,出了这个要求的范围那么实验室的设计就有漏洞,就不合格,就容易发生事故。气瓶室墙宜采用实体结构,门应设计为防爆门,安装防爆灯以及防爆风机,万一发生事故可减少实验室区域的破坏性。存放钢瓶屋内不宜吊顶。气瓶室内还应设有气体泄漏、低压换气报警设施,及排风装置,同时设计时还应考虑防雷、防静电、空调设备等设施。为了保证气体纯度和压力的稳定性,需采用多级减压方式供气,宜设置气路吹扫、排空、杂质过滤、水分和油汽净化等装置,有条件的可采用双气源自动切换模式供气。
高纯供气系统
气瓶柜的技术要求为铝型35×35框架,柜门、侧板采用金属冷轧板,均用环氧树脂粉沫喷涂,内设可活动的气瓶抱箍,便于气瓶的更换和移动。对气体分析仪用气体,如含氢10%,其余是氦的混合气以及含甲1烷5%或10%。地脚为不锈钢螺丝、尼龙罩盖、橡胶底座组合结构,可调节高度为0—0.3m。配置了气体泄漏报警、温度数字指示、气体泄露时自动排放。具有防爆、阻燃等功能。实验室应按照房间大小比例设计相应数量带逆风阀的换气扇,使空气流通顺畅,保持清洁。每个房间都要设计带有过滤装置的通气孔,如果是带有室内走廊的房间也可在门窗上设百叶窗,尺寸按照排气量比例关系计算。
高纯供气系统
净化则采用了世界先进的净化材料。气瓶间的位置如果可能尽量位于与试验室相对独立的房间,如果与试验室在同一大楼内,则气瓶间的位置要尽量位于人1流较少并且独立的房间,这种方式可使气瓶与工作人员及仪器完全隔离,即使有害气体有泄漏,也不会发生直接伤害。其特点有吸附深度好,吸收杂质气体量大的特点,高纯度可达99.9999%以上。2.并安装了小于1μ的金属过滤器。保证了气体粉末的要求。3.本装置的阀门采用国内外阀门公司的产品,保证了产品的高纯度无渗透及性。4.设备中全部容器、管道、阀门均为不锈钢材质。5.设备中的主要控制仪表全部采用国内外先进产品。6.接头采用先进的高纯接头,保证了无渗透。